一、系統的真空值

　　旋轉蒸發儀的密閉空間由蒸發瓶、蒸發管、密封圈、冷凝管等玻璃組件、真空緩沖瓶、真空泵和真空管路組成，而這其中，影響系統真空zui關鍵且會變化的因素是：真空泵、密封圈和真空管。真空泵和真空控制器：真空泵極限越低，系統的真空值也越低。在蒸餾的時候，需要通過真空控制器設置合理的真空值，保證蒸餾效率，同時避免爆沸。目前隔膜真空泵的極限真空zui低可達2mbar，循環水泵的極限真空大約50mbar（0.095kpa）。如果預算允許，真空控制器或真空閥就很有必要，它能控制好蒸餾所需的系統真空值。

　　二、加熱鍋溫度

　　加熱鍋溫度越高，溶劑的蒸餾效果越快，但考慮到目標成分的熱敏性、操作的安全性，zui常用的溫度是60℃。再者80°C以上，改用硅油作為介質會帶來清潔的問題，一般更建議降低真空值來達到更快的蒸餾效率。目前市面上，的隔膜真空泵，極限真空可以達到2mbar，DMF在常溫下都可以蒸餾出來。

　　三、蒸發瓶的轉速

　　蒸發瓶的轉速越快，瓶內表面浸潤面積愈大，受熱面積大；但同時液膜厚度也愈厚，增大傳熱溫差。對于不同粘度的物料，存在*轉速。且轉動動力由馬達提供，市面上直流無刷馬達、交流馬達和步進馬達都有，參差不齊，直流無刷馬達的反饋是的，10年免維修維護。

　　四、冷卻介質的溫度

　　為確保*的蒸餾效率，冷卻介質一般建議同加熱鍋溫度保持40°C的溫差，以便將熱蒸汽進行快速冷凝，降低蒸汽對系統真空的影響。安全風險評估蒸餾的安全風險主要來源于蒸餾的溶劑和加熱介質。

　　1）如果加熱介質是硅油的話，燃點至少高出加熱鍋zui高溫度25°C。

　　2）蒸餾溶劑如帶易燃、易爆性質的話，防爆玻璃組件可作為，蒸餾結束，儀器若能自動放氣，以免人工放氣太快，引發爆炸。

　　3）優化實驗室環境，可以選配二次冷凝裝置zui大化回收蒸餾溶劑。